دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی
سازمان مربوطه :
دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی
نشانی آزمایشگاه :
تهران، خیابان کارگر شمالی، بعد از 4راه جلال آل احمد، دانشکده فنی دانشگاه تهران، ساختمان قدیم برق و کامپیوتر، طبقه زیر همکف.
مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
تاریخ بروزرسانی : ۱۴۰۲/۰۵/۰۳
نام انگلیسی :
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
آخرین وضعیت دستگاه :
آماده سرويس دهي
| موارد قابل اندازه گیری با دستگاه |
|---|
| مورد اندازه گیری شده |
واحد اندازه گیری |
دقت اندازه گیری |
| دما (تا 650) |
درجه سانتیگراد |
1 |
| فشار |
torr |
0.1 |
| خدمات قابل ارائه با این دستگاه |
|---|
| شرح خدمت |
نحوه ارائه |
هزینه (ریال) |
| رشد نانوتیوب کربنی- گرافن روی بستر |
توسط آزمايشگاه |
۵,۰۰۰,۰۰۰ |
| پوشش دهی کربن |
توسط آزمايشگاه |
۳,۰۰۰,۰۰۰ |
| پروسه های دمادهی و اعمال پلاسما |
توسط آزمايشگاه |
۲,۰۰۰,۰۰۰ |
| زمان سرویس دهی با این دستگاه |
|---|
| روز |
ساعت شروع |
ساعت پایان |
توضیحات |
| شنبه تا چهارشنبه |
۸:۰۰ |
۲۰:۰۰ |
- |
| پنج شنبه |
۸:۰۰ |
۲۰:۰۰ |
- |
| متخصصین دستگاه |
|---|
| نام و نام خانوادگی |
مرتبه علمی |
تلفن |
| ثریا هورنام |
کارشناس ارشد |
- |
| لیدا نوروزی |
کارشناس ارشد |
- |
| علیرضا حبیبی |
کارشناس ارشد |
- |
| محمدرضا یعسوبی |
کارشناس ارشد |
- |
