دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی
سازمان مربوطه :
مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی
نشانی آزمایشگاه :
بزرگراه آزادگان جنوب، احمدآباد مستوفی، میدان پارسا، انتهای خیابان انقلاب، سازمان پژوهش های علمی و صنعتی ایران، سایت نانو، ICAN
مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
تاریخ بروزرسانی : ۱۴۰۳/۰۱/۱۴
نام انگلیسی :
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
آخرین وضعیت دستگاه :
آماده سرويس دهي
موارد قابل اندازه گیری با دستگاه |
مورد اندازه گیری شده |
واحد اندازه گیری |
دقت اندازه گیری |
دما |
درجه سانتیگراد |
2 |
خدمات قابل ارائه با این دستگاه |
شرح خدمت |
نحوه ارائه |
هزینه (ریال) |
خدمات لایه نشانی PECVD |
توسط آزمايشگاه |
۸۰,۰۰۰,۰۰۰ |
زمان سرویس دهی با این دستگاه |
روز |
ساعت شروع |
ساعت پایان |
توضیحات |
شنبه تا چهارشنبه |
۸:۳۰ |
۱۶:۳۰ |
- |
متخصصین دستگاه |
نام و نام خانوادگی |
مرتبه علمی |
تلفن |
فرید موثق آلانق |
مربی |
- |