دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی
سازمان مربوطه :
مرکز صنعتی سازی نانوفناوری کاربردی
نشانی آزمایشگاه :
بزرگراه آزادگان جنوب، احمدآباد مستوفی، میدان پارسا، انتهای خیابان انقلاب، سازمان پژوهش های علمی و صنعتی ایران، سایت نانو، ICAN
مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
تاریخ بروزرسانی : ۱۴۰۳/۰۱/۱۴
نام انگلیسی :
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
آخرین وضعیت دستگاه :
آماده سرويس دهي
| موارد قابل اندازه گیری با دستگاه |
| مورد اندازه گیری شده |
واحد اندازه گیری |
دقت اندازه گیری |
| دما |
درجه سانتیگراد |
2 |
| خدمات قابل ارائه با این دستگاه |
| شرح خدمت |
نحوه ارائه |
هزینه (ریال) |
| خدمات لایه نشانی PECVD |
توسط آزمايشگاه |
۸۰,۰۰۰,۰۰۰ |
| زمان سرویس دهی با این دستگاه |
| روز |
ساعت شروع |
ساعت پایان |
توضیحات |
| شنبه تا چهارشنبه |
۸:۳۰ |
۱۶:۳۰ |
- |
| متخصصین دستگاه |
| نام و نام خانوادگی |
مرتبه علمی |
تلفن |
| فرید موثق آلانق |
مربی |
- |