کوره نفوذ دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر

نام انگلیسی :

زمینه های کاربردی

خاصیت قابل اندازه گیری :

آخرین وضعیت دستگاه :

توضیحات :

یکی از ابزارهای اساسی در آزمایشگاه سلول خورشیدی دانشگاه تهران، کوره نفوذ است که برای لایه نشانی اکسید خشک، لایه نشانی اکسید تر، نفوذ بور و نفوذ فسفر استفاده می‌شود. این سیستم با تنظیم دستورالعمل توسط کامپیوترهای مرکزی، دارای قابلیت لایه نشانی اکسید سیلیکون با ضخامت های متفاوت است. امکان بالا بردن دمای این سیستم تا ۱۱۰۰ درجه سانتی گراد می‌باشد، از این رو اکسیدهایی با کیفیت بالا خواهیم داشت. هم‌چنین این سیستم توانایی بارگذاری بیش از ۱۰۰ نمونه (ویفرهای مونو، پلی و آمورف در ابعاد ۴ اینچ و کوچکتر) را در هر فرآیند دارد. نفوذ بور و فسفر در این سیستم با استفاده از سورس مایع، سیستم حباب‌ساز و دمای بالا صورت می‌گیرد، بنابراین نفوذ یکنواختی از حامل‌ها را خواهیم داشت. می‌توان با تغییر دستورالعمل نفوذ، تراکم و عمق‌های متفاوتی از بور و فسفر را داشت.