دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر

آزمایشگاه مربوطه :

آزمایشگاه اندازه گیری وخصوصیت یابی سلولهای خورشیدی-پایلوت تحقیقاتی تولید سلولهای خورشیدی دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر پردیس دانشکده های فنی دانشگاه تهران

سازمان مربوطه :

دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر

نشانی آزمایشگاه :

تهران،خ کارگر شمالی،روبه روی کوچه ی هفتم،پردیس شماره 2دانشکده ی فنی،دانشکده ی برق،آزمایشگاه پایلوت فتولتایک

مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
تاریخ بروزرسانی : ۱۳۹۶/۰۹/۱۴

نام انگلیسی :

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

آخرین وضعیت دستگاه :

آماده سرويس دهي

توضیحات :

ضخامتی لایه‌ های ایجاد شده توسط این سیستم از چند ده نانومتر تا دو میکرومتر است. این سیستم برای لایه نشانی اکسید سیلیکون و پلی سیلیکون نیز استفاده می‌شود.

زمان سرویس دهی با این دستگاه
روز ساعت شروع ساعت پایان توضیحات
شنبه ۹:۰۰ ۱۷:۰۰ شنبه تا چهارشنبه