جستجو در دستگاه های آزمایشگاه
جستجوی دستگاه بر اساس حروف الفبا
دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر
آزمایشگاه مربوطه :
آزمایشگاه نانوالکترونیک و لایه نازک دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر پردیس دانشکده های فنی دانشگاه تهران- وضعیت عضویت : فعال
- تلفن : ۸۸۰۱۳۲۰۱- ۸۲۰۸۴۹۰۵
سازمان مربوطه :
دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر
نشانی آزمایشگاه :
دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر- دانشگاه تهران- خیابان کارگر شمالی تقاطع جلال آل احمد- آزمایشگاه نانوالکترونیک و لایه نازک
مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
نام انگلیسی :
Plasma Enhanced Chemical Vapor Depositionزمینه های کاربردی
مهندسي , علوم پايهخاصیت قابل اندازه گیری :
فیزیکی , سایرآخرین وضعیت دستگاه :
آماده سرويس دهيمحدودیت های دستگاه :
برخی مواد مانند قلع و یا ترکیبات اکسیدی در صورت استفاده به سیستم صدمه می زنند
توضیحات :
قابلیت بسیار بالا برای رشد نانولوله های کربنی
| موارد قابل اندازه گیری با دستگاه | ||
|---|---|---|
| مورد اندازه گیری شده | واحد اندازه گیری | دقت اندازه گیری |
| قابلیت لایه نشانی چند لایه | nm | - |
| خدمات قابل ارائه با این دستگاه | ||
|---|---|---|
| شرح خدمت | نحوه ارائه | هزینه (ریال) |
| لايه نشانی | توسط آزمايشگاه | ۵۰۰,۰۰۰ |
| زمان سرویس دهی با این دستگاه | |||
|---|---|---|---|
| روز | ساعت شروع | ساعت پایان | توضیحات |
| شنبه | ۸:۳۰ | ۱۷:۳۰ | با هماهنگي قبلي |
| یکشنبه | ۸:۳۰ | ۱۷:۳۰ | با هماهنگي قبلي |
| دوشنبه | ۸:۳۰ | ۱۷:۳۰ | با هماهنگي قبلي |
| سه شنبه | ۸:۳۰ | ۱۷:۳۰ | با هماهنگي قبلي |
| چهارشنبه | ۸:۳۰ | ۱۷:۳۰ | با هماهنگي قبلي |
| متخصصین دستگاه | ||
|---|---|---|
| نام و نام خانوادگی | مرتبه علمی | تلفن |
| فاطمه صالحی | كارشناس | ۸۸۰۱۳۲۰۱ |
