دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر
سازمان مربوطه :
دانشگاه تهران - پردیس دانشکده های فنی - دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر
نشانی آزمایشگاه :
دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر- دانشگاه تهران- خیابان کارگر شمالی تقاطع جلال آل احمد- آزمایشگاه نانوالکترونیک و لایه نازک
مشخصات دستگاه رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما:
نام انگلیسی :
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
زمینه های کاربردی
مهندسي , علوم پايه
خاصیت قابل اندازه گیری :
فیزیکی , سایر
آخرین وضعیت دستگاه :
آماده سرويس دهي
توضیحات :
این دستگاه قابلیت RF را دارد.
| موارد قابل اندازه گیری با دستگاه |
|---|
| مورد اندازه گیری شده |
واحد اندازه گیری |
دقت اندازه گیری |
| قابلیت لایه نشانی چند لایه |
nm |
- |
| خدمات قابل ارائه با این دستگاه |
|---|
| شرح خدمت |
نحوه ارائه |
هزینه (ریال) |
| لايه نشانی سيليکان هيدروژنه |
توسط آزمايشگاه |
۱,۵۰۰,۰۰۰ |
| لايه نشانی سيليکان نيتريد و سيليکان اکسيد |
توسط آزمايشگاه |
۱,۵۰۰,۰۰۰ |
| هيدروژن دهی |
توسط آزمايشگاه |
۱,۵۰۰,۰۰۰ |
| زمان سرویس دهی با این دستگاه |
|---|
| روز |
ساعت شروع |
ساعت پایان |
توضیحات |
| شنبه |
۸:۳۰ |
۱۷:۳۰ |
با هماهنگي قبلي |
| یکشنبه |
۸:۳۰ |
۱۷:۳۰ |
با هماهنگي قبلي |
| دوشنبه |
۸:۳۰ |
۱۷:۳۰ |
با هماهنگي قبلي |
| سه شنبه |
۸:۳۰ |
۱۷:۳۰ |
با هماهنگي قبلي |
| چهارشنبه |
۸:۳۰ |
۱۷:۳۰ |
با هماهنگي قبلي |
| متخصصین دستگاه |
|---|
| نام و نام خانوادگی |
مرتبه علمی |
تلفن |
| فاطمه صالحی |
كارشناس |
۸۸۰۱۳۲۰۱ |
